QAS / Process Material Analysis, NXP Semiconductors, Gerstweg 2, 6534AE Nijmegen, the Netherlands;
Hogeschool Arnhem Nijmegen, the Netherlands;
Saxion Hogeschool Enschede, the Netherlands;
particle removal; diffusion; surfactant;
机译:使用光学粒子计数器的原位颗粒去除研究
机译:使用光学粒子的原位粒子去除研究
机译:在2013年夏季的ChArMEx活动期间,通过气球载光光学气溶胶计数器/粒度仪(LOAC)对地中海西部上方的沙漠尘埃颗粒进行了现场测量
机译:使用光学粒子计数器的原位颗粒去除研究
机译:用于平流层气溶胶尺寸分布的原位测量的新光学粒子计数器
机译:从原位计数器测量反演气溶胶尺寸分布:仪器计数效率和与卫星测量的比较
机译:在2013年夏季的ChArMEx活动期间,通过气球式轻型光学气溶胶计数器/粒度仪(LOAC)对地中海西部上方的沙漠尘埃颗粒进行了现场测量
机译:用于原位测量的光学粒度计数器。