Department of Electronic Engineering, Sejong University, Seoul, Korea;
机译:通过阴极电弧等离子体物理气相沉积工艺加工火花等离子体烧结Fe合金并通过Alcrn单层涂层加强其表面性质
机译:基本选择性大气压等离子体增强的化学气相沉积方法,用于微米沉积等离子体聚合甲基丙烯酸甲基丙烯酸甲酯
机译:多尺度等离子体和特征轮廓型等离子体增强化学气相沉积和原子层沉积工艺的钛薄膜制造
机译:使用GA优化GRNN预测等离子体增强沉积过程
机译:低工艺温度下库珀种子层的等离子体增强原子层沉积。
机译:低温等离子体增强化学气相沉积法在玻璃基板上铜辅助垂直石墨烯纳米片的直接生长
机译:离子沉积 - 离子在等离子体增强的化学气相沉积,等离子体增强原子层沉积,以及面积选择性沉积的应用
机译:使用Inline mW RpECVD(microWave远程等离子体增强化学气相沉积)系统进行连续siN(sub x)等离子体处理