College of Chemical Engineering and Material Science, Zhejiang University of Technology, Hangzhou, China 310014;
Hangzhou Iron and Steel Group Corporation, Hangzhou, China 310022;
diamond films; B-O co-doped; XRD; Raman;
机译:B-O共掺杂金刚石薄膜的结构性能
机译:制备条件对等离子体源离子植入制备的金刚石状碳膜结构性能和硬度的影响
机译:通过等离子体浸没离子注入和沉积(PIII-D)合成的氟掺杂类金刚石碳膜的结构,机械和疏水特性
机译:O和B-O离子植入金刚石膜的结构性能
机译:掺氮和离子注入金刚石薄膜的成分和结构分析。
机译:微观结构对场增强的影响锂离子纳米晶金刚石薄膜的电子发射特性植入和退火工艺
机译:制备条件对等离子体源离子植入制备的金刚石状碳膜结构性能和硬度的影响
机译:沉积和碳离子注入金刚石薄膜的摩擦磨损性能