School of Chemical Engineering and Technology, Chonbuk National University, Chonju 561-756, Republic of Korea;
CMP; H_2 etching; as-received 6H-SiC; 6H-SiC epilayers; homoepitaxy; CVD reactor;
机译:在4°离轴衬底上生长具有低表面粗糙度和形态缺陷密度的4H-SiC外延层
机译:用SiN_x对Si(1 1 1)衬底进行表面改性,以生长高质量的β-SiC外延层
机译:模拟退火法在6H-碳化硅衬底上外延生长石墨烯
机译:Si(111)衬底上生长的3C-SiC中间层化学刻蚀表面上GaN外延层的生长和表征
机译:在6H-碳化硅和15R-碳化硅衬底上生长的砷化硼外延层的缺陷结构和生长机理。
机译:Si(111)衬底上异质外延生长3C-SiC的动力学表面粗糙化和晶圆弯曲控制
机译:Ge介导的低轴4H-SiC衬底上双自由3C-SiC成核和生长的表面制备