Kumamoto National College of Technology, 2569-2 Koshi, Kumamoto 861-1102, Japan;
JAXA, 2-1-1 Sengen, Ibaraki 305-8505 75, Japan;
IMEC, Kapeldreef 75, B-3001 Leuven, Belgium;
dose rate dependence; Si; bipolar transistor; irradiation; 2-MeV electrons;
机译:NPN双极型结晶体管在不同剂量率下辐射引起的增益衰减模型
机译:2-MeV电子辐照在薄栅氧化物PD-SOI MOSFET中背栅退化的剂量率依赖性
机译:DLTS研究重离子辐照的硅NPN双极结型晶体管中缺陷的偏置依赖性
机译:辐射诱导的晶格缺陷的剂量率依赖性和2MEV电子照射中NPN Si双极晶体管中的性能降解
机译:基于N沟道InGaAsP-InP的倒置通道技术器件(ICT)的设计,制造和表征,用于光电集成电路(OEIC):双异质结光电开关(DOES),异质结场效应晶体管(HFET),双极倒置沟道场-效应晶体管(BICFET)和双极型反向沟道光电晶体管(BICPT)。
机译:加速电子转移过程和增强的还原降解性能的铝和铜掺杂晶格
机译:中子和γ辐照下商用NpN双极结晶体管的电学特性
机译:评估垂直npn和横向pnp双极晶体管的温度增强增益退化