Graduate School of Science and Technology Shizuoka University 3-5-1 Johoku Naka-ku Hamamatsu 432-8011 Japan;
Graduate School of Electronic Science and Technology Shizuoka University 3-5-1 Johoku Naka-ku Hamamatsu 432-8011 Japan;
Faculty of Engineering Shizuoka University 3-5-1 Johoku Naka-ku Hamamatsu 432-8561 Japan;
机译:通过Ar / NH3气体混合物表面波等离子剪裁射频磁控溅射ZnO薄膜的表面功能
机译:不同气体低温表面波等离子体处理对壳聚糖表面改性的影响
机译:疏水碳氟化合物薄膜沉积的高压表面波等离子体的生产和控制
机译:用于铜金属化的芳香族聚酯(Vecstar OC〜®)膜的等离子体表面改性-等离子体改性的Vecstar OC膜的动态表面性能
机译:氟硅烷等离子体的薄膜表征和机理研究:从薄膜化学到自由基表面反应。
机译:等离子体改性HOPG表面上生长的硅烷膜的扫描俄歇显微镜研究
机译:850 mHz表面波等离子体源的开发和等离子体表征
机译:等离子体表面改性薄膜和纤维的共聚焦显微镜研究