Center of Optoelectronics of Academy of Sciences of Moldova, Academiei Str., 1, Chisinau, MD-2028, Republic of Moldova;
security; diffraction; structure; optical; electron-beam; lithography; holographic;
机译:混合曝光策略:将电子束直接写入与光学光刻相结合,用于磁记录头
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机译:基于微镜阵列的高分辨率光学无掩模光刻。
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