J.O.B. Technologies Aiea Hawaii USA;
机译:通过一种新颖的形成技术制造的高性能Ge超浅结,该技术采用旋涂掺杂剂和激光退火技术,适用于10 nm以下的技术应用
机译:用多层激光对多层结构中的辐射缺陷退火过程中的掺杂物再分布,以生产注入式整流器
机译:在通过激光脉冲对辐射缺陷进行退火的过程中,掺杂剂在多层结构中的重新分布,用于生产植入结整流器
机译:通过离子注入和微波,激光或炉退火技术的精确掺杂剂浓度控制选择性和同性恋发射器结形成
机译:外延氮化镓中的离子植入损伤,退火和掺杂剂活化
机译:通过低温微波退火通过掺杂剂隔离技术调整肖特基势垒高度
机译:固态微波退火与离子注入siC常规炉退火的比较
机译:固态微波退火与离子注入siC常规炉退火的比较2。杂志文章