NSF ERC for Extreme Ultraviolet Science and Technology Colorado State University Fort Collins 80523 USA;
机译:通过光发射电子显微镜在波长范围内检查极紫外光刻掩模坯料中的40 nm以下缺陷
机译:波长极限紫外光刻光刻掩模空白检测的灵敏度限制因素
机译:使用学习系统增强的缺陷检测能力,适用于具有投影电子显微镜光学元件的极紫外光刻掩模检测工具
机译:极端紫外线光刻面膜的顶部显微镜检查
机译:台式,全视野,光化显微镜,用于极端紫外线光刻掩模表征。
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:B4C覆盖层对极端紫外线掩模的影响对使用投影电子显微镜图案化掩模检查的灵敏度