Nanoelectronics and Gigascale Systems Laboratory, Institute of Electronics, National Chiao-Tung University, Hsinchu, Taiwan;
机译:在65nm CMOS技术中考虑栅极泄漏电流的2个VDD耐压电源轨ESD钳位电路设计
机译:2个$ times $ VDD耐压电源轨ESD钳位电路的新设计,用于采用65 nm CMOS技术的混合电压I / O缓冲器
机译:NBTI / PBTI对纳米CMOS中具有高k金属栅极器件的多米诺逻辑电路性能的影响
机译:纳米级CMOS技术中仅具有1×VDD设备的2×VDD逻辑门的设计
机译:纳米级双栅CMOS器件和技术的建模和优化设计。
机译:高k和更稳定的稀土氧化物作为先进CMOS器件的栅极电介质的设计
机译:用于高风扇门的超深亚微米CmOs技术中的电路设计的漏电容,噪声免疫多米诺逻辑
机译:批量CmOs VLsI技术研究。第1部分:可扩展CmOs设计规则。第2部分pLa(可编程逻辑阵列)设计的CmOs方法