首页> 外文会议>IEEE 26th International SOC Conference >Design of 2#x00D7;VDD logic gates with only 1#x00D7;VDD devices in nanoscale CMOS technology
【24h】

Design of 2#x00D7;VDD logic gates with only 1#x00D7;VDD devices in nanoscale CMOS technology

机译:纳米CMOS技术中仅具有1×VDD器件的2×VDD逻辑门设计

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

The novel 2×VDD NOT, NAND, and NOR logic gates have been designed and implemented in a nanoscale CMOS process with only 1×VDD devices. With the proposed dynamic source bias technique, the logic gates can be designed to have 2×VDD tolerant capability. Thus, the new 2×VDD logic gates can be operated under 2×VDD voltage environment without suffering the gate-oxide reliability issue.
机译:新颖的2×VDD NOT,NAND和NOR逻辑门已在仅使用1×VDD器件的纳米级CMOS工艺中设计和实现。利用提出的动态源极偏置技术,可以将逻辑门设计为具有2×VDD容忍能力。因此,新的2×VDD逻辑门可以在2×VDD电压环境下工作,而不会遇到栅极氧化物可靠性问题。

著录项

  • 来源
  • 会议地点 Erlangen(DE)
  • 作者

    Chiu Po-Yen; Ker Ming-Dou;

  • 作者单位

    Nanoelectronics and Gigascale Systems Laboratory, Institute of Electronics, National Chiao-Tung University, Hsinchu, Taiwan;

  • 会议组织
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号