Metals and Ceramics Division Oak Ridge National Laboratory, Oak Ridge, TN 37831-6063, USA;
机译:在中压SOFC应用中,在大气压下通过CVD法在致密的YSZ衬底上沉积δ-Bi2O3薄膜
机译:2D模型和仿真流动动力学,电场和低温,大气压氮等离子体尖端板到平面构造和CVD反应器中的电气
机译:石墨烯在铜上常压CVD的实验确定模型
机译:YSZ大气压CVD的建模与系统设计
机译:大气压等离子体CVD工艺的设计,该工艺使用介电势垒放电沉积氮化硅薄膜。
机译:通过常压CVD从癸烷前体在铜上生长的氮掺杂扭曲石墨烯
机译:大气压等离子体化学气相沉积的非晶硅薄膜的高速率沉积。 (第一个报告)。具有旋转电极的大气压等离子体CVD装置的设计与生产。
机译:常压CVD沉积氧化铟等离子体过滤器的特性