Hanyang University, Ansan, Gyeonggi-do, Korea;
Hanyang University, Ansan, Gyeonggi-do, Korea;
EUVL; high NA; thin absorber; PSM;
机译:超越极紫外光刻技术的金属吸收材料的评估
机译:TaTe2O7薄膜作为极紫外光刻二元掩模吸收材料的光学性能
机译:用极紫外显微镜观察极紫外光刻掩模上残留型薄吸收体缺陷
机译:高Na极端紫外线光刻的新吸收材料的可行性
机译:强烈的毛细管放电等离子体极紫外光源,用于极紫外光刻和其他极紫外成像应用。
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:评估金属碲化物的稳定性作为极端紫外线光刻的替代光掩模材料
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。