首页> 外文OA文献 >Assessing stability of metal tellurides as alternative photomask materials for extreme ultraviolet lithography

【2h】

Assessing stability of metal tellurides as alternative photomask materials for extreme ultraviolet lithography

机译：评估金属碲化物的稳定性作为极端紫外线光刻的替代光掩模材料

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

著录项
引文网络
相似文献
相关主题

著录项

作者
Vu Luong; Vicky Philipsen; Karl Opsomer; Jens Rip; Eric Hendrickx; Marc Heyns; Christophe Detavernier; Christian Laubis; Frank Scholze;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2019
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Printability of buried extreme ultraviolet lithography photomask defects [J] . Kazunori Seki, Takeshi Isogawa, Masayuki Kagawa, Journal of microanolithography, MEMS, and MOEMS . 2016,第2期

机译：掩埋极紫外光刻光掩模缺陷的可印刷性
2. Viability of pattern shift for defect-free extreme ultraviolet lithography photomasks [J] . Zhengqing John Qi, Jed Rankin, Eisuke Narita, Journal of microanolithography, MEMS, and MOEMS . 2016,第2期

机译：无缺陷的极紫外光刻光掩模图案转移的可行性
3. Effect of post-etch cleaning on Ru-capped extreme ultraviolet lithography photomask [J] . Jisook Oh, Chanhyoung Park, Dongwan Seo, Applied Surface Science . 2012,第10期

机译：蚀刻后清洗对Ru覆盖的极紫外光刻光掩模的影响
4. Alternative materials for high numerical aperture extreme ultraviolet lithography mask stacks [C] . Obert Wood, Sudhar Raghunathan, Pawitter Mangat, Conference on extreme ultraviolet lithography VI . 2015

机译：高数值孔径极紫外光刻掩模叠层的替代材料
5. Intense capillary discharge plasma extreme-ultraviolet sources for extreme-ultraviolet lithography and other extreme-ultraviolet imaging applications. [D] . Klosner, Marc Alexander. 1998

机译：强烈的毛细管放电等离子体极紫外光源，用于极紫外光刻和其他极紫外成像应用。
6. Sub-10 nm feature chromium photomasks for contact lithography patterning of square metal ring arrays [O] . Woongkyu Park, Jiyeah Rhie, Na Yeon Kim, -1

机译：亚10 nm特征铬光掩模用于方形金属环阵列的接触光刻构图
7. Stochastic simulation and calibration of organometallic photoresists for extreme ultraviolet lithography [O] . Zelalem Belete, Peter De Bisschop, Ulrich Welling, 2021

机译：用于极端紫外光刻的有机金属光致抗蚀剂的随机仿真与校准

Assessing stability of metal tellurides as alternative photomask materials for extreme ultraviolet lithography

著录项

引文网络

相似文献

相关主题

期刊订阅