Micro resist technology GmbH 325 Koepenicker Str. H211 12555Berlin Germany;
Profactor Produktionsforschungs GmbH Im Stadtgut A2 A-4407 Steyr-Gleink Austria;
transparent stamps; sol-gel; hybrid polymer; nanoimprint lithography (nil); uv patterning;
机译:基于紫外线的纳米压印光刻技术,带有氟化柔性印章
机译:通过尺寸减小工艺制造的用于基于UV的纳米压印光刻的大面积纳米尺寸阵列印模
机译:固态平行板基于UV的纳米压印光刻中的均压印模和基材变形
机译:紫外线纳米压印光刻 - 技术与材料的替代方法
机译:用于纳米压印光刻的新型有机硅材料和图案化技术。
机译:使用具有各种微/纳米比的印模进行的紫外线纳米压印光刻的抗蚀剂填充研究
机译:在自由曲面上进行纳米压印光刻:用于预测柔性印模变形的全局/局部建模方法