Christian Doppler Laboratory for TCAD in Microelectronics at the Institute for Microelectronics, TU Vienna, Gusshausstrasse 27-29, A-1040 Wien, Austria;
simulation; SiC; incomplete lonization; activation energy; inequivalent sites;
机译:基于4H-SiC基于半导体器件的瞬态过程模拟(考虑到Silvaco TCAD软件包的掺杂剂不完全电离)
机译:高速开关过程中不完全电离对SiC器件的影响
机译:不完全电离掺杂剂的动力学及其对4H / 6H-SiC器件的影响
机译:晶格网站依赖性离子化在α-SIC器件中的建模
机译:用于开关变换器的SiC功率半导体器件的建模和损耗分析
机译:通过H 6H-SiC的晶格缺陷和剥离效率
机译:使用SiC器件的高功率功率电子器件的高温功率模块技术的数值建模。
机译:在平衡不完全块和格子平方设计中使用同时自回归模型