Computational Mechanics Center, Mechanical Engineering Department University of Wisconsin -Madison, WI 53706;
EUV lithography; electrostatic chucking experiments; flatness specifications; finite element analysis;
机译:EUV掩模卡盘的平坦度表征
机译:EUV面罩的静电吸盘
机译:EUV二元掩模对掩模放大倍率对衍射光影响的严格电磁模拟
机译:EUV面具和夹头分析 - 模拟和实验
机译:压电表面声波器件用于EUV掩模颗粒去除的开发和仿真。
机译:通过对神经元模型的实验数学分析和计算机模拟的混合来剖析人类力量控制背后的机制
机译:EUV-散射仪和有限元分析的EUV掩模计量