NIST Polymers Division, 100 Bureau Drive, Gaithersburg, MD 20899-8541;
nanoimprint lithography; residual stress; thickness; pattern shape; metrology; X-ray reflectivity; critical dimension small angle scattering;
机译:纳米压印平版印刷术和粘弹性在模型聚苯乙烯图案中残余应力的产生中的作用
机译:基于电子莫尔条纹的紫外纳米压印光刻后抗蚀剂中残余应力和应力强度因子的同时分析
机译:用于制造高密度衍射光栅的预应力辅助纳米压印光刻
机译:压力在纳米压印光刻中的作用
机译:分步和快速压印光刻:低压,室温纳米压印光刻。
机译:纳米压印光刻对强小型化光谱仪的作用
机译:低温纳米压印光刻技术的压模应力分析