OMG Ultra Pure Chemicals, Saint-Fromond 50620, France,Institut Lavoisier de Versailles, Universite de Versailles Saint-Quentin-en-Yvelines, Versailles 78035, France;
OMG Ultra Pure Chemicals, Saint-Fromond 50620, France,Institut Lavoisier de Versailles, Universite de Versailles Saint-Quentin-en-Yvelines, Versailles 78035, France;
Institut Lavoisier de Versailles, Universite de Versailles Saint-Quentin-en-Yvelines, Versailles 78035, France;
Institut Lavoisier de Versailles, Universite de Versailles Saint-Quentin-en-Yvelines, Versailles 78035, France;
Institut Lavoisier de Versailles, Universite de Versailles Saint-Quentin-en-Yvelines, Versailles 78035, France;
Institut Lavoisier de Versailles, Universite de Versailles Saint-Quentin-en-Yvelines, Versailles 78035, France;
机译:铜载体上钼氧化物的电沉积研究
机译:电化学石英晶体微天平研究高氯酸盐溶液中铅在铜基底上的电沉积机理
机译:银金属化SiC芯片与钼衬底之间以及钼衬底与块状铜之间压力相关的热接触电阻的研究
机译:钼基底铜电沉积机制研究
机译:集成电路-基板封装制造中可使用的铜电沉积工艺
机译:嗜油寡糖carboxidovorans中的钼-铜CO脱氢酶的动力学和光谱研究
机译:(NAF - KF) - K2MOO4 - B2O3熔体拉曼和红外光谱研究及钼电沉积机理。
机译:基体表面处理对二硫化钼薄膜润滑及失效机理的影响