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赵夕; 徐强; 丁飞; 刘兴江;
天津大学,化工学院,天津,300072;
中国电子科技集团公司,第18研究所,天津,300381;
石墨基体; 铜; 电沉积; 成核机理;
机译:还原氧化石墨烯电极上电化学沉积铜的成核机理
机译:氨在玻璃碳上电沉积铜的反应和成核机理
机译:一次性铅笔石墨电极上铜电沉积的反应和成核机理
机译:铜基体上电沉积镍/铜多层薄膜的结构和显微硬度表征
机译:原位研究添加剂对铜单晶上电沉积铜的生长行为的影响。
机译:快速扫描循环伏安法在还原氧化石墨烯上电化学沉积金纳米粒子用于灵敏测定As(III)
机译:固体氧化物电解质薄膜在多孔基体上电化学气相沉积的动力学研究
机译:金(Ⅲ)合金上电化学沉积铜的结构
机译:金属在含铬基体上电沉积保护的研究
机译:在薄膜基体上电镀低内应力铜沉积的方法
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