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石墨基体上电沉积铜成核机理的研究

     

摘要

通过循环伏安法和恒电位阶跃暂态法,研究硫酸铜-硫酸溶液中铜在石墨基体上的电沉积行为,并利用扫描电子显微镜观察石墨基体表面金属铜沉积颗粒的形态和分布.结果表明:在较正的电位区间内,铜的沉积遵从连续成核机理;而在较负的电位区间内,铜的沉积遵从瞬时成核机理.

著录项

  • 来源
    《电镀与精饰》|2010年第10期|1-4|共4页
  • 作者

    赵夕; 徐强; 丁飞; 刘兴江;

  • 作者单位

    天津大学,化工学院,天津,300072;

    天津大学,化工学院,天津,300072;

    中国电子科技集团公司,第18研究所,天津,300381;

    中国电子科技集团公司,第18研究所,天津,300381;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TQ153.14;
  • 关键词

    石墨基体; 铜; 电沉积; 成核机理;

  • 入库时间 2022-08-18 06:52:43

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