Toyota Central Research and Development Laboratories, Inc. Nagakute, Aichi, 480-1192, Japan;
机译:独立式GaN衬底上生长的非极性a平面AIGaN / GaN异质结构场效应晶体管
机译:独立式GaN衬底上的AlGaN / GaN异质结构场效应晶体管的直流特性
机译:在独立的GaN衬底上以1.2 kV级工作的1.8mΩ·cm〜2垂直GaN基沟槽金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:GaN电源整流器和现场效应晶体管在独立的GaN基板上
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:从硅衬底上分离出来的独立式GaN上的InGaN / GaN蓝色发光二极管的正向隧穿特性研究
机译:si上的增强型金属 - 绝缘体 - 半导体GaN / alInN / GaN异质结构场效应晶体管,阈值电压为+ 3.0V,阻断电压高于1000V
机译:m面alGaN / GaN和alInN / GaN异质结构的外延生长适用于常驻型GaN基板上的常关模式高功率场效应晶体管