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Comparison of SOI, poly-Si TFT and bulk Si MOS performance using gin/ID methodology

机译:使用gin / ID方法比较SOI,poly-Si TFT和体Si MOS性能

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摘要

The poly-Si TFT is a member of the SOI family which recently achieves higher levels of performance and integration onto glass substrate. However, in the TFT analogue circuit fields, a systematic design methodology is still lacking. Standard SOI or bulk Si analog design techniques can not be directly extended to TFT because of the unique Ⅰ-Ⅴ characteristics caused by trap effects in TFT. In this work we modified the gm/Id analog design methodology to extend it to TFT technology. The comparison of analog performance of various technologies, i.e. bulk silicon, SOI and TFT, has been made through the common-source amplifier case.
机译:多晶硅TFT是SOI系列的成员,该系列最近实现了更高水平的性能以及与玻璃基板的集成。然而,在TFT模拟电路领域,仍然缺乏系统的设计方法。由于TFT中的陷阱效应引起的独特的Ⅰ-Ⅴ特性,标准的SOI或体Si模拟设计技术不能直接扩展到TFT。在这项工作中,我们修改了gm / Id模拟设计方法,以将其扩展到TFT技术。通过共源放大器的情况,可以比较各种技术(即体硅,SOI和TFT)的模拟性能。

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