GES, Universite Montpellier II Place Eugene Bataillon, 34095 Montpellier cedex 5, France;
机译:二氧化硅-硅界面陷阱电荷对单片金属-氧化锌-氮化硅-二氧化硅-硅卷积器性能的影响
机译:高能X射线衍射分析氮化硅陶瓷扩散键的应变和残余应力。
机译:苯并环丁烯(BCB)与二氧化硅/氮化硅之间的键合界面脱层
机译:氮化硅和二氧化硅键合对层转移SOI残余应力的影响
机译:光学干涉测量法在硅基板上的二氧化硅膜中的平面内残余应力。
机译:残余热应力对氮化硅基复合材料力学性能的影响
机译:利用多功能扩展热等离子体技术获得高质量沉积的氮化硅,二氧化硅和非晶硅获得的高质量表面钝化
机译:在冷基板硅上沉积单晶硅,二氧化硅和氮化硅的研究