SOISIC S.A., 48 rue de la gare de Reuilly, 75012 PARIS;
机译:使用0.35μm部分耗尽晶体管的CAD兼容SOI-CMOS门阵列
机译:在兼容CMOS的SOI上完全耗尽和部分耗尽的SiGe HBT中的X射线辐照和偏置效应
机译:论非掺杂MOSFET在部分耗尽SOI CMOS工艺中用于模拟应用的巨大潜力
机译:部分耗尽的SOI CMOS门的稳态表征
机译:部分耗尽的SOI CMOS中的辐射硬化模拟电路。
机译:拟南芥中生长素缀合物的表征。吲哚-3-乙酰基天冬氨酸盐吲哚-3-乙酰基谷氨酸盐和吲哚-3-乙酰基葡萄糖的低稳态水平
机译:在亚微米CMOS和BICMOS技术中使用伪浮栅测试结构进行电容器精确匹配测量的新表征方法
机译:激光退火金属栅极sOI CmOs场效应晶体管的直流和射频特性