Lambda Physik AG, Hans-Boeckler-Strasse 12, D-37079 Gottingen, Germany;
high power excimer laser; TFT annealing; UV light; SLS;
机译:低温低压化学气相沉积生长多晶硅的原位准分子激光退火:金属扩散对薄膜形貌和生长速率的影响
机译:3KHZ准分子激光束形梁的顺序横向凝固获得硅膜的研究
机译:准分子激光退火在低温处理的多晶硅中的晶体生长-多晶硅晶粒与能量密度和发射数量的关系
机译:低温多晶硅技术中的300 W XeCl受激准分子激光退火和顺序横向凝固
机译:适用于大面积电子设备的低温硅薄膜:使用软光刻和通过顺序横向固化进行激光结晶的器件制造。
机译:193 nm ArF受激准分子激光在激光辅助等离子体增强SiNx的化学气相沉积中的作用以进行低温薄膜封装
机译:低温多晶硅技术中300 W XeCl准分子激光退火和顺序侧向凝固