Intel Corporation, Intel Mask Organization, Santa Clara, CA 95052;
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:基于相干衍射成像方法聚焦EUV聚焦的EUV显微镜的EUV掩模缺陷评估
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:使用纳米机加工的EUV和其他具有挑战性掩模缺陷的减肥修复
机译:具有掩埋缺陷的EUV光刻掩模的仿真和补偿方法。
机译:修改DNA修复纳米机的功能以达到治疗效果
机译:减轻EUV面罩缺陷的综合缺陷避免框架
机译:新型EUV面罩空白缺陷修复发展