IBM Microelectronics Division Essex Junction, VT 05452 (USA);
机译:EUVL掩模制造的关键技术开发
机译:EUVL掩模制造的关键技术开发
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:45-NM节点的EUVL面膜制造
机译:预测和校正在EUVL掩模的制造和夹持过程中引起的图像放置错误
机译:使用灰度光刻技术实现微混合器的三维(3D)微结构制造的单一乳化掩模的实现
机译:EUVL掩模空白缺陷对32-NM HP节点的可检测性和可打印性