Infineon Technologies AG, MH P E, Balanstrassee 73, D-81541 Munich, Germany;
photomask; plasma stripping; microwave plasma;
机译:等离子体-聚合物相互作用:纳米级制造等离子蚀刻过程中对聚合物抗蚀剂掩模耐久性的了解进展综述
机译:电子回旋共振等离子体源与分开的微波耦合沉积的X射线光刻掩模钽膜
机译:氢等离子体预处理增强的P / sup +/-负负抗蚀剂的氧等离子体剥离:温度效应
机译:微波等离子体抗蚀剂用于面罩制造
机译:使用微波加热和微波等离子体将甲烷低聚为高级烃。
机译:通过微波等离子体增强CVD的低电阻率Si的选择性生长和接触间隙填充
机译:电感耦合等离子体对有机电阻掩模和金属掩模NiFe薄膜的反应离子刻蚀
机译:电弧等离子喷涂微波铁氧体粉末的制备方法与技术措施。