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【2h】

Reactive Ion Etching of NiFe Film with Organic Resist Mask and Metal Mask by Inductively Coupled Plasma

机译：电感耦合等离子体对有机电阻掩模和金属掩模NiFe薄膜的反应离子刻蚀

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作者
Tomomi Kanazawa; Shin-Ichi Motoyama; Takayuki Wakayama; Hiroyuki Akinaga;
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年度 2007
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1. Chlorine-based inductively coupled plasma etching of GaAs wafer using tripodal paraffinic triptycene as an etching resist mask [J] . Matsutani Akihiro, Ishiwari Fumitaka, Shoji Yoshiaki, Japanese journal of applied physics . 2016,第6s1期

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2. Broadband and wide-angle antireflection subwavelength structures of Si by inductively coupled plasma etching using dewetted nanopatterns of Au thin films as masks [J] . J.W. Leem, J.S. Yu Thin Solid Films . 2011,第11期

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