Dept. of Electrical Eng., Aichi Inst. of Technology, Japan;
机译:基材温度对聚酰亚胺塑料基材的喷雾热解Cu(Ga0.3米0.7)Se-2薄膜结构和光学性能的影响
机译:高沸点溶剂旋涂法制备的聚噻吩薄膜的三阶光学敏感性
机译:微晶尺寸对Rf溅射制备的CdSe嵌入SiO_2玻璃薄膜三阶非线性光学磁化率的影响
机译:有机气对聚酰亚胺基质制备的三阶光学敏感性及钒基 - 酞菁薄膜的影响
机译:金属有机化学气相沉积法制备钽酸钽铌酸钾薄膜的结构,介电和光学性质
机译:玻璃和柔性聚酰亚胺基板上纳米级GZO薄膜的结构电学和光学性质的研究
机译:在聚酰亚胺基材上制备Vopc薄膜的非线性光学性质和相位结构
机译:衬底对金属有机化学气相沉积制备的外延pbTiO(sub 3)薄膜的结构和光学性质的影响