Institut fuer Theoretische Elektrotechnik, RWTH Aachen, Kopernikusstrasse 16, D-52074 Aachen, Germany;
MOVPE; GaN; Si; GalnN; MQW; DBR; laser; electroluminescence; photoluminescence;
机译:用于光电器件应用的间隙(111)表面的分子和晶格动力学行为的理论研究
机译:利用气体放电辅助的脉冲激光沉积在Si(111)衬底上的GaN薄膜的结构表征和光电性能
机译:使用生长方法和不同中间层在Si(111)上改进的GaN半导体的光电性能
机译:用于光电应用Si(111)的GaN的调查
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:用于光电应用的两步自限制外延法制备晶圆级热力学稳定的GaN纳米棒
机译:使用生长方法和不同层间改进GaN半导体改进GaN半导体的光电性能
机译:用于光电应用的si(111)上GaN的金属有机化学气相外延