Advanced Process Development External Research, DigitalDNA~(TM) Laboratories, Motorola 7700 South River Parkway, Tempe, AZ 85284;
extreme ultra-violet lithography; EUVL; multi-layers; defect; reticle; smoothing;
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:通过光电子显微镜对EUVL掩模空白缺陷进行光化检查:检查波长变化的影响
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机译:平滑EUVL掩模基底缺陷更快,适用于现实世界缺陷的平滑过程 - (PPT)
机译:校正策略以补偿在EUVL掩模卡盘过程中引起的图像放置错误。
机译:金属薄膜:形成由弹性体基底支撑的液态金属光滑膜的方法(Adv。Sci。10/2018)
机译:EUVL掩模空白缺陷对32-NM HP节点的可检测性和可打印性
机译:EUVL掩模空白低缺陷多层膜的研究进展