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Si基底上TiN膜不同参数(分压,膜厚,束流强度)下的PAT缺陷分析

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用IBAD(ion beam assisted deposition)方法镀TiN膜不但有很好的膜基结合力,而且纳米硬度、耐腐、耐磨性能可通过高低能结合的方法来提高.本文作者用PAT(positron annihilation technique)技术分析了在同一高低能条件下不同参数对Si基底的缺陷的影响,解释并论证了改进实验的方法.

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来源
《第五届中国功能材料及其应用学术会议》|2004年|2138-2140|共3页
会议地点秦皇岛
作者
冯宏剑; 赵杰;
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作者单位

中国仪器仪表学会;

中国金属学会;

中国稀土学会;

中国复合材料学会;

中国有色金属学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类薄膜技术;
关键词
IBAD; PAT; 缺陷; TiN膜; Si基底;

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