Advanced Manufacturing Research Institute, National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), 1-2-1 Namiki, Tsukuba, Ibaraki, Japan 305-8564;
Center for Applied Near Field Optics Research, National Institute of Advanced Industrial Sc;
x-ray lithography; gray mask; Ni electroforming; hot embossing; LIGA process; needle array; polycarbonate; polymethyl methacrylate;
机译:使用Si灰色掩模进行X射线光刻的针阵列的制造
机译:通过掩模拖动X射线光刻和对准X射线光刻技术制造聚合物微针阵列
机译:通过管阵列制造和蚀刻方法的可定向取向的二氧化硅针阵列的简便加工方法
机译:用LIGA工艺进行针阵组合X射线罩的新型制造方法
机译:用于低于70纳米的器件构造的X射线相移掩模的制造,仿真和演示。
机译:通过呼吸数字方法轻松制造超疏水纳米针阵列
机译:基于灰度掩模的非球面折射微透镜阵列的制作和建模
机译:通过具有50nm线宽的X射线掩模的三电平电子束光刻制造,以及通过X射线纳米光刻复制