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L4/3 型フォトニック結晶ナノ共振器を用いた量子ドット共振器量子電気力学系における強結合状態の観測

机译:L4 / 3型光子晶体纳米腔在量子点共振器量子电动力学系统中强耦合态的观察

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摘要

量子ドット(QD)とフォトニック結晶(PhC)ナノ共振器を用いた高品質な強結合系の実現は、固体共振器量子電気力学の探求および量子情報技術応用[1]の観点から重要である。これまでに我々は、高い共振器Q 値と微小モード体積(V)を有するH0 型PhC ナノ共振器を用いて高いQD-共振器結合レートg( >160μeV)を持つ系を報告してきた[2]。しかし、H0 共振器の最大電場は空孔側壁近傍に局在しているため、空孔エッチングによるQD の光学特性劣化等の懸念があった。一方、最近提案されたL3 型共振器に4 つの空孔を導入したL4/3 型共振器[3]は、H0 型と同等のQやV を実現できる上、最大電場が共振器中央(誘電体部分)に位置する。従って、空孔側壁の影響を低減しつつ、大きなg を実現できると期待される。今回我々は、L4/3 型PhC ナノ共振器を用いた単一QD-共振器結合系において強結合状態を示す真空ラビ分裂の観測に成功したので報告する。実験 図1(a)にL4/3 型共振器の電界分布を示す。共振器の最大電場が共振器中央に位置していることが分かる。また共振器周辺の空孔シフト[3]により小さなV~0.3(λ/n)3を維持しつつ、高い共振器Q 値~6×106 が得られた。実験では、低密度InAs/GaAs QD を埋め込んだGaAs 共振器(スラブ厚130 nm)を作製・測定した。図1(b)は低温(5K)顕微分光測定(CW,808nm,106nW)を行った結果である。共振器波長はガス堆積法により制御した。QD と共振器の共鳴時には、強結合状態を示す明瞭な真空ラビ分裂(78μeV)を観測した。また共振器スペクトルから求めたQ値~33,000(共振器損失κ~40μeV)と分裂幅からg ~ 40μeVを見積もった。本共振器のモード体積はH0 共振器と同程度であるため、QD が電界強度の高い共振器中央に位置すれば、さらに大きなg が実現可能であると期待できる。その他詳細は当日報告する。
机译:从固态腔量子电动力学和量子信息技术应用的角度来看,使用量子点(QD)和光子晶体(PhC)纳米腔实现高质量的强耦合系统非常重要。 ..到目前为止,我们已经报道了使用高腔Q值和小模量(V)的H0型PhC纳米腔,具有高QD腔耦合率g(> 160μeV)的系统[2 ]。但是,由于H0谐振器的最大电场位于孔的侧壁附近,因此担心QD的光学特性会因孔蚀刻而劣化。另一方面,最近提出的将L4 / 3型谐振器引入四个孔的L4 / 3型谐振器[3]可以实现与H0型相同的Q和V,并且最大电场为位于身体部位)。因此,期望在减小孔的侧壁的影响的同时能够实现大的g。在这里,我们报告我们成功观察到真空Rabi分裂,该分裂在使用L4 / 3型PhC纳米腔的单个QD腔耦合系统中表现出强耦合状态。实验图1(a)显示了L4 / 3谐振器的电场分布。可以看出,谐振器的最大电场位于谐振器的中心。另外,由于空穴在空穴周围的移动而保持较小的V〜0.3(λ/ n)3的同时,获得了〜6×10 6的高空穴Q值[3]。在实验中,制造并测量了嵌入了低密度InAs / GaAs QD的GaAs谐振器(板厚130 nm)。图1(b)显示了低温(5K)显微光谱(CW,808nm,106nW)的结果。通过气体沉积法控制腔波长。在QD和谐振器的谐振处,观察到清晰的真空Rabi裂隙(78μeV),显示出很强的耦合状态。另外,从谐振器频谱和分离宽度获得的Q值〜33,000(谐振器损耗κ〜40μeV)估计出g〜40μeV。由于该谐振器的模量与HO谐振器的模量大致相同,因此,如果QD位于电场强度高的谐振器的中心,则可以预期可以实现更大的g。其他详细信息将在当天报告。

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