IST-Hokkaido Univ. anup.sanchela@es.hokudai.ac.jp;
RIES-Hokkaido Univ.;
Univ. Tokyo;
Pusan Natl Univ.;
IST-Hokkaido Univ. RIES-Hokkaido Univ.;
机译:真空退火对外延掺杂La的BaSnO3薄膜电子迁移率的影响
机译:高温生长的缓冲层提高了外延掺杂La的BaSnO3 / SrZrO3异质结构中的电子迁移率
机译:缓冲层的制造高迁移率透明氧化物半导体,La-掺杂BasnO3
机译:La-掺杂BasnO3薄膜中的迁移抑制起源(Ⅱ)
机译:外延BasnO3中的结构和运输:掺杂,移动性和绝缘子 - 金属过渡
机译:掺La的BaSnO3超导薄膜中可见光/太赫兹功能电磁结构的THz表征和演示
机译:高压磁控溅射的高流动性La-掺杂Basno3薄膜的一步外延