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机译:高压磁控溅射的高流动性La-掺杂Basno3薄膜的一步外延
Ruyi Zhang; Xinyan Li; Jiachang Bi; Shunda Zhang; Shaoqin Peng; Yang Song; Qinghua Zhang; Lin Gu; Junxi Duan; Yanwei Cao;
机译:三层镍镍(ND0.8SR0.2)4NI3O10薄膜的相干外延,高压磁控溅射
机译:磁控溅射制备La掺杂TiO2薄膜的光催化活性研究
机译:射频磁控溅射沉积La掺杂的xBiInO3(1-x)PbTiO3压电薄膜的表征
机译:通过反应性直流磁控溅射制备的用于光伏应用的高迁移率氧化铜(I)薄膜
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
机译:掺La的BaSnO3超导薄膜中可见光/太赫兹功能电磁结构的THz表征和演示
机译:磁控溅射外延生长亚稳态ScAlN和YAlN薄膜
机译:可以切换两种磁通分布模式(平衡模式/非平衡模式)的磁控溅射设备,使用该设备和双模式磁控溅射设备形成无机成膜材料的膜的成膜方法,以及使用该装置在低温下形成膜的无机成膜材料的成膜方法
机译:可以将两种模式的磁通量分布(平衡模式/不平衡模式)从一种切换到另一种的磁控溅射装置,以及一种使用该装置由无机成膜材料形成膜的成膜方法,以及一种双模式磁控溅射装置及成膜方法,使用该装置由无机成膜材料在低温下成膜
机译:磁控溅射装置,用于使用该装置的无机薄膜材料的磁通量配置(平衡型/非平衡型)可切换成膜方法,以及用于非磁性薄膜的双型磁控溅射装置和成膜方法成型B
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