Department of Chemistry, School of Molecular Science (BK 21) Center for Advanced Functional Polymers, Korea Advanced Institute of Science Technology, 373-1 Guseong-dong, Yuseong-gu, Daejeon, 305-701, Korea;
deep UV; diazoketo; lithography; photobleaching; photoresists;
机译:基于单组分非化学放大抗蚀剂系统的新型可光漂白的深紫外线抗蚀剂
机译:基于单组分非化学放大抗蚀剂系统的含硅双层抗蚀剂
机译:使用化学放大技术进行深紫外和真空紫外光刻的表面硅烷化单层抗蚀剂
机译:基于单组分非经济放大抗蚀剂系统的光脱模深紫色抗蚀剂的合成
机译:深紫外光致抗蚀剂技术中的问题:用于248和213 nm光刻的本体和表面成像抗蚀剂的表征和建模。
机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:基于官能多冰冰衍生物的新型单组分抗性,深紫色光刻。
机译:深紫外线抗蚀剂系统中的激光诱导反应:用皮秒红外光谱研究