IBM T.J. Watson Research Center, Yorktown Heights, NY 10598;
rnIBM Microelectronics Division, Hopewell Junction, NY 12533;
rnColumbia University, Dept. of Appl. Physics and Appl. Math., New York, NY 10027;
机译:薄膜的非环境X射线衍射残余应力分析:追踪纳米尺寸对热弹性常数的影响并确定残余应力的来源
机译:退火参数对X射线衍射和原子力显微镜研究ZnO薄膜残余应力和压电性能的影响
机译:基于同步加速器掠入射X射线衍射的氧分压和退火温度对硅上氧化ha薄膜残余应力的影响
机译:X射线衍射薄膜的空间瞬态应力效应
机译:使用X射线衍射分析钨薄膜中的深度轮廓残余应力。
机译:高能X射线衍射∕ X射线荧光光谱仪用于成分扩散薄膜的高通量分析
机译:1 pbmiO3薄膜应力效应的拉曼光谱和X射线衍射研究