8834 North Capital of Texas Highway, Suite 301, Austin, TX 78759;
photoresist modeling; lithography simulation; PROLITH;
机译:193nm顶表面成像工艺的非化学放大抗蚀剂和化学放大抗蚀剂的光刻性能
机译:电阻切换参数在电阻随机存取存储器交叉杆阵列的影响
机译:综述聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)作为多功能光刻胶-着重于紫外线曝光
机译:建模后曝光烘烤期间的热历史对化学放大型抗蚀剂光刻性能的影响
机译:使用集总参数建模智能压实测量值对轧辊参数的影响
机译:多金属氧酸盐杂化材料作为可图案化电介质和光刻胶的研究
机译:使用集总器的抗蚀剂和平版印刷工具的比较研究 参数模型
机译:金属配位聚合物作为潜在的高能光刻抗蚀剂。