Institute of Applied Optics, Kamionkowska 18,03-805 Warsaw, Poland;
Institute of Electronic Materials Technology, Wolczynska 133, 01-919 Warsaw, Poland;
atom helium microscope; membrane thickness descriptors; image descriptors;
机译:通过原子力显微镜,扫描电子显微镜和高速视频显微摄影对微孔和纳米孔聚合物膜进行物理表征
机译:使用近场扫描光学显微镜和原子力显微镜在液体环境中锥形光纤传感器的van逝场表征
机译:通过电扫描探针显微镜和透射电子显微镜详细表征聚焦离子束对碳化硅样品造成的横向损伤
机译:用于扫描氦原子束显微镜镜的SI晶片表征的对称描述符
机译:使用原子序数对比扫描透射电子显微镜和卢瑟福背散射光谱技术对硒化镉纳米晶体系统进行原子能级表征。
机译:Ag(111)上生长的硅层的原子结构:扫描隧道显微镜和非接触式原子力显微镜观察。
机译:异源纳米系统的原子尺度3D表征:扫描透射电子显微镜中成像和分析技术的剂量有效融合
机译:原子力显微镜和扫描隧道显微镜与组合原子力显微镜/扫描隧道显微镜