Corporate Research and Development Laboratories, Sumitomo Metal Industries Ltd., 1-8 Fuso-Cho, Amagasaki 660-0891, Japan;
boron; carbon; computer simulation of oxygen precipitation; epitaxial wafers; IG; internal gettering; lattice strain; nitrogen; oxygen precipitation;
机译:重碳,氮和硼掺杂对硅外延晶片中氧析出行为的影响
机译:高温氮退火在重掺杂砷的硅晶片上的硅外延层中引起间隙氧沉淀
机译:快速热处理对重掺杂硼衬底的p / p〜+硅外延晶片中铜沉淀的影响
机译:重硼掺杂对外延晶片Czochralski硅基衬底氧沉淀的影响
机译:由硅碳氧氮构成的聚合物陶瓷的机械性能及其在干燥和潮湿环境中的摩擦学行为。
机译:重石墨氮自掺杂高孔隙率碳对氧还原反应的电催化
机译:研究重硼掺杂的切克劳斯基硅p / p +外延晶片中的铜沉淀
机译:原子能级(源自光谱分析。第一卷。氢,氘,氚,氦,锂,铍,硼,碳,氮,氧,氟,氖,钠,镁,铝,硅的光谱,磷,苏