CeF_3薄膜を用いた紫外光センサの真空中アニール処理による欠陥制御

摘要

これまでに我々は光センサ材料として紫外光照射に対して高い耐久性がありワイドバンドギャップ材料であるフッ化物を用いて薄膜を作製し光センサの開発を進めてきた。これまでの研究から作製した薄膜には成膜中に生じたと考えられる欠陥が無数に存在していることが示唆されており、それらがセンサ性能に影響を及ぼしていると考えられる。デバイスの分野では欠陥を制御する手法としてポストアニール処理が数多く報告されている。本発表ではパルスレーザー堆積法で作製した CeF3薄膜に真空中でアニール処理を施すことによる薄膜品質及びセンサ性能への影響を評価したのでこれを報告する。