Tokyo Electron Kyushu Ltd., 1-1 Fukuhara, Koshi-machi, Kikuchi-gun, Kumamoto, Japan 861-1116;
edge resist remover; process time; defect; linearity; complex removal line;
机译:使用热阵列在先进的光掩模上处理化学放大的抗蚀剂
机译:对先进的光掩模进行3-D计量和高级维修
机译:光掩模制造的化学放大抗蚀剂过程中界面效应的理论研究
机译:用于光掩模的先进的边缘抗蚀剂去除剂
机译:用于光掩模,微加工和微加工的双金属热阻。
机译:暴露于光致抗蚀剂和抗蚀剂去除剂后DNA寡核苷酸的生物识别。
机译:由双金属Bi / In热电阻制成的单步直写光掩模