Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University, 2-1-1 Katahira Aoba-ku, Sendai, 980-8577, Japan;
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University, 2-1-1 Katahira Aoba-ku, Sendai, 980-8577, Japan;
Capacitance; Semiconductor device measurement; Two dimensional displays; Energy states; Microscopy; Filling;
机译:超高阶扫描非线性介电显微镜的局部深层瞬态光谱学及其在SiO_2 / SiC界面阱二维分布成像中的应用
机译:局部深度瞬态瞬态光谱使用超高阶扫描非线性介电显微镜及其在成像SiO2 / SIC接口陷阱的二维分布中的应用
机译:基于超高阶扫描非线性介电显微镜的局部深能级瞬态光谱技术对SiO_2 / SiC界面中陷阱分布的二维成像
机译:采用局部深级瞬态光谱法测量MOS界面陷阱分布的定量成像
机译:多晶氧化锌中的深层瞬态光谱和深界面态的表征。
机译:跨学科运动图像脑机接口联合分布匹配的深度神经网络
机译:siO $ _2 $ / siC结构中界面陷阱的表征接近于 通过深层瞬态光谱学的传导带
机译:用深能瞬态光谱法比较n型和p型GaasN中的显性电子陷阱能级