Univeristy Illinois at Urbana-Champaign, 208 North Wright Street, Urbana, IL, 61801, USA;
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Hafnium compounds; Electrodes; Annealing; Capacitors; Tin; Leakage currents;
机译:基于氧化铪的铁电器件,用于计算内存应用
机译:探索用于铁电掺杂铝的氧化Ha的新型金属电极
机译:具有单层二硫化钼和超薄铝掺杂氧化oxide的铁电晶体管
机译:铁电铝掺杂氧化铪用于内存应用
机译:用于高级加密应用的氧化memory /铜电阻存储器的研究。
机译:灵活的准van der Wa族铁电铪基氧化物用于集成高性能非易失性记忆
机译:铁电动随机存档回忆和铁电场效应晶体管的铁电铪氧化物