KU Leuven, Belgium;
Imec, Leuven, Belgium;
Imec, Leuven, Belgium;
Imec, Leuven, Belgium;
Imec, Leuven, Belgium;
Imec, Leuven, Belgium;
Imec, Leuven, Belgium;
Imec, Leuven, Belgium;
Imec, Leuven, Belgium;
Imec, Leuven, Belgium;
KU Leuven, Belgium;
Random access memory; Stability criteria; Threshold voltage; Capacitance; Tuning; Logic gates;
机译:采用28 nm FD-SOI CMOS技术实现的低于及接近阈值操作的无负载6T SRAM单元
机译:采用14 nm FinFET技术的单位线7T SRAM单元,用于近阈值电压操作,具有增强的性能和能量
机译:具有22nm FinFET技术的增强读取性能的单端9T SRAM单元,用于近阈值电压操作
机译:专用技术阈值电压调谐超过N7超出SRAM
机译:基于7NM FinFET的6T SRAM细胞瞬态和DC分析性能分析
机译:通过n型分子掺杂来调整碳纳米管晶体管的阈值电压以实现强大而灵活的互补电路
机译:用于65 nm CMOS技术中亚阈值操作的6T和10T SRAM单元的比较分析
机译:使用准分子激光器对金属栅极mOsFET进行阈值电压调谐