Department of micro- and nanoelectronics of National Research Nuclear University MEPHI, Kashirskoe sh., 31, Moscow, Russiac;
机译:基于化学气相沉积衍生的单层MoS2的高迁移率顶栅场效应晶体管和集成电路
机译:纳米尺度静电效应建模的绿色功能方法完全耗尽双栅极绝缘体金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:具有(001)或(111)Si表面沟道的超薄体单栅极和双栅极绝缘体上金属-氧化物-半导体场效应晶体管的声子有限电子迁移率的经验模型
机译:双门式单层MOS2频道场效应晶体管建模静电
机译:基于N沟道InGaAsP-InP的倒置通道技术器件(ICT)的设计,制造和表征,用于光电集成电路(OEIC):双异质结光电开关(DOES),异质结场效应晶体管(HFET),双极倒置沟道场-效应晶体管(BICFET)和双极型反向沟道光电晶体管(BICPT)。
机译:局部氦离子辐射对合成单层MOS2场效应晶体管性能的影响
机译:场效应晶体管:多层MOS2场效应晶体管的阈值电压控制通过十八烷基氯硅烷及其应用于由增强模式逻辑门驱动的有源矩阵量子点显示器(小7/2019)