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【24h】

Ferroelectric properties of PZT and PLZT films on Si substrate with ITO buffer layer

机译:具有ITO缓冲层的Si衬底上PZT和PLZT薄膜的铁电性能

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摘要

PZT and PLZT films on Si substrates were deposited to realize electro-optic modulators on LSI chip. The coercive field and remnant polarization of PZT and PLZT film were 148kV/cm and 50µC/cm2, 170kV/cm and 32µC/cm2, respectively.
机译:在Si衬底上沉积PZT和PLZT膜,以在LSI芯片上实现电光调制器。 PZT和PLZT薄膜的矫顽场和残余极化分别为148kV / cm和50µC / cm 2 ,170kV / cm和32µC / cm 2

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