首页> 外文会议>IEEE International Conference on Group IV Photonics >Ferroelectric properties of PZT and PLZT films on Si substrate with ITO buffer layer
【24h】

Ferroelectric properties of PZT and PLZT films on Si substrate with ITO buffer layer

机译:用ITO缓冲层对Si衬底的PZT和PLZT薄膜的铁电特性

获取原文

摘要

PZT and PLZT films on Si substrates were deposited to realize electro-optic modulators on LSI chip. The coercive field and remnant polarization of PZT and PLZT film were 148kV/cm and 50µC/cm2, 170kV/cm and 32µC/cm2, respectively.
机译:Si基板上的PZT和PLZT薄膜沉积以实现LSI芯片上的电光调制器。 PZT和PLZT膜的矫顽磁场和残余偏振分别为148kV / cm,分别为50μC/ cm 2 ,170kV / cm和32μc/ cm 2

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号