V. Lashkaryov Institute of Semiconductor Physics, NAS of Ukraine, 41, Nauki Prospect, Kiev, 03028, Ukraine;
机译:欧姆接触与高位错密度的III-V化合物的接触电阻的温度依赖性
机译:重叠n-Si欧姆接触中接触电阻率的温度依赖性
机译:重叠n-Si欧姆接触中接触电阻率的温度依赖性
机译:具有高位脱位密度的欧姆触点温度依赖性PC(T)的特征,具有高错密度的N-GaN(N-ALN)
机译:通过固相反应开发与n-Ga(或Al)(0.5)In(0.5)P的不尖峰欧姆接触以及对n-GaAs进行低温处理的欧姆接触
机译:通过插入TiO2中间层改善低温处理的金属/ n-Si欧姆接触的可弯曲单晶硅纳米膜薄膜晶体管
机译:与高位错密度的n-AlN和n-GaN接触的电阻形成机理研究
机译:镍/锗/金,钯/锗/钛/铂,钛/钯欧姆接触对砷化镓的接触电阻及其温度依赖性从4.2到350K